Mentor公司代表团访问微电子所及中科院EDA中心

作者：蓝天 2010-10-15

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　EDA工具厂商Mentor公司代表团访问了微电子所及中科院EDA中心，双方就进一步加强合作进行了座谈。
　　
　　会议特别邀请Mentor公司大客户项目经理张淑雯做主题报告，详细介绍了65nm及以下工艺制程面临的挑战以及Mentor提供的DFM相关解决方案。中国科学院EDA中心陈岚主任出席并主持了本次会议，Mentor公司亚太区技术总监Andrew先生、中芯国际DFM部门负责人张立夫博士以及声学所、自动化所、计算所等EDA中心会员单位也参加了本次交流会。
　　
　　交流会上，张淑雯女士首先介绍了65nm及以下工艺芯片制造时遇到的各种随机和系统波动，包括particle所引起的短路断路、光刻和化学机械抛光所带来的工艺偏差等问题。这些问题随着关键尺寸的缩小而变得越发严重，已经无法通过简单的设计规则约束来避免。因此，芯片可制造性的问题，逐步转移到了上游设计者的手中，在设计完成前就要考虑其在指定工艺条件下，是否能具有较高的加工良率。MentorGraphics提供了一整套的DFM解决方案，包括关键区域分析（CAA）工具、光刻友好设计（LFD）工具、化学机械抛光（CMP）模拟工具和ESD分析工具等。这些工具都是通过了代工厂所提供大量silicondata的验证，为芯片设计者提供了一个可靠的虚拟平台来提前检验自身设计，大大缩短芯片的加工周期和进入市场的时间。例如，CMP模拟分析结合Smart-Fill工具可以有效解决化学机械抛光中遇到的平坦性问题，ESD分析工具PERC提供了包括Pin-to-PinResistance和Currentdensity等方面的电路可靠性分析。作为 Mentor重要合作伙伴单位的中芯国际，其DFM部门负责人张立夫博士还介绍了SMIC65/45nm流程中的DFM相关内容。
　　
　　会后，Andrew先生还与EDA中心的部分技术人员进行了小范围的讨论交流。