Nikon 在一份声明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在取得授权的情况下，采用了 Nikon 的11项欧洲专利技术，运用在 ASML 的浸润式微影系统中…
日本光学大厂Nikon日前对荷兰半导体设备厂ASML及其镜头供应商Carl Zeiss提起法律诉讼，要求在德国、日本和荷兰的法院裁定禁止ASML销售浸润式微影系统并寻求损坏赔偿。根据路透社(Reuter)报导，这是自去年底长期的专利纠纷谈判陷入僵局后Nikon所采取的最新行动。
在荷兰，Nikon针对ASML侵权的11项欧洲专利中的每一项发布个别诉讼案。其中的一件诉讼案在德国曼海姆(Mannheim)还引用两项欧洲专利；德国曼海姆正是Zeiss为ASML制造光学元件之处。此外，Nikon还在东京地方法院主张两项针对ASML的日本专利。
Nikon总裁兼代表处主任Kazuo Ushida表示：“我们坚信ASML未经授权使用了Nikon专利的最先进技术，包括浸润式微影技术，这使得ASML得以扩展其微影业务。”
ASML执行长Peter Wennink则指出：“Nikon提起的诉讼毫无根据且不必要，徒增半导体产业的不确定性。过去几年来，ASML已经多次尝试与Nikon协商延长交叉授权协议，但Nikon并未认真与我们协商，而是选择了采取法律行动。”
今年1月，ASML发布2016年营收达到67.95亿欧元(约73.7亿美元)的新高记录。Nikon则宣称其浸润式进器专利的销售约有35亿欧元(38亿美元)。
两家公司之间的纠纷可追溯到2001年12月，当时Nikon在美国提起侵权诉讼。Nikon、ASML和Zesis在2004年在部份专利上达成合解，授权期限在 2009 年到期。
双方协议其专利过渡期在2014 年底到期。Nikon称在2010年开始尝试与ASML和Zesis重新谈判新的协议。
市场调查公司VLSI Research总裁G. Dan Hutcheson表示：“奇怪的是这两家公司怎么会糊涂到忘记签授权协议？我很惊讶ASML居然让事情进展到这一步，因为它们一点也不缺现金。”
“Nikon是1990年代初微影系统的领导厂商，市占率超过60%。它是第一家公开研究当今浸润式技术的公司之一。然而，Nikon选择继续在日本发展，而ASML则采取与晶片制造商及其晶圆厂合作的方式获得了成功。”
根据VLSI Research的调查报告，目前，ASML在微影市场的市占率达到84%，浸润式步进器占93%，远远地将位居市场第二的Nikon抛在后面。Nikon在全球微影市场中仅占9%。
Hutcheson说：“所以发生这起诉讼并不奇怪，Nikon正努力地尝试拿回一些他们在浸润式技术研发的投资报酬。”
(参考原文：Nikon Renews Patent Battle with ASML，by Rick Merritt)
